Produk

Kami mempelajari elektroda film nanokarbon yang didoping nitrogen dengan konsentrasi nitrogen lebih rendah dari 10,9 pada% yang dibentuk oleh metode sputtering magnetron (UBM) yang tidak seimbang.Kandungan sp(3) dalam film nanokarbon sputtering UBM yang didoping nitrogen (film N-UBM) sedikit meningkat dengan meningkatnya konsentrasi nitrogen.Ikatan seperti grafit yang mengandung nitrogen berkurang dan ikatan seperti piridin meningkat dengan meningkatnya konsentrasi nitrogen.Film N-UBM memiliki permukaan yang sangat halus dengan kekasaran rata-rata 0,1 hingga 0,3 nm, yang hampir tidak bergantung pada konsentrasi nitrogen.Elektroda film N-UBM menunjukkan jendela potensial yang lebih luas (4,1 V) daripada elektroda film UBM murni (3,9 V) karena sedikit peningkatan kandungan sp(3).Aktivitas elektrokatalitik meningkat dengan meningkatnya konsentrasi nitrogen, menunjukkan bahwa elektroaktivitas maksimum ketika konsentrasi nitrogen sekitar 10,9%, yang dikonfirmasi oleh pemisahan puncak Fe(CN)6(4-).Potensi reduksi hidrogen peroksida (H2O2) pada elektroda film N-UBM bergeser sekitar 0,1 V, dan arus puncak H2O2 meningkat sekitar 4 kali lipat.